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中頻磁控濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是
1.克服了陽極消失現象，
2.減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數倍。
匯成公司研發了平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。
東莞市匯成真空科技有限公司可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控
系統也可根據用戶要求進行設計配置。
詳情請致電我司13316689188 李國棟 經理 http://www.suichenggd.cn